對飲用水體的影響及紫外線解決方案(一)
隨著水質(zhì)分析技術(shù)的進(jìn)步和公眾健康意識的提升,除了傳統(tǒng)關(guān)注的三鹵甲烷(THMs)和鹵乙酸(HAAs),一類被稱為“新興消毒副產(chǎn)物(EDBPs)”的污染物也逐漸受到重視。其中,(NDMA)因其強(qiáng)的致癌性(美國環(huán)保署將其歸為B2類致癌物,終生致癌風(fēng)險濃度僅為0.7 ng/L)成為研究焦點。
01
背景介紹
NDMA在水處理過程中主要通過含氮有機(jī)物前體(如二甲胺)在氯胺(尤其是一氯胺)或氯消毒條件下,經(jīng)復(fù)雜反應(yīng)生成。此外,部分工業(yè)排放和制藥行業(yè)也是NDMA的重要來源。
由于NDMA具有高水溶性和低分子量,常規(guī)的混凝、沉淀、過濾等工藝對其去除效率極低,傳統(tǒng)氯消毒反而可能促進(jìn)其生成。因此,NDMA的深度處理技術(shù)已成為現(xiàn)代飲用水處理領(lǐng)域亟需解決的重大課題。
紫外線技術(shù)憑借其消毒和光化學(xué)轉(zhuǎn)化的雙重能力,為NDMA的控制提供了獨特且有效的解決方案。通過紫外線技術(shù),可以從“預(yù)防生成”和“深度去除”兩個層面系統(tǒng)解決飲用水中的NDMA問題。
02
NDMA的特性、形成機(jī)理與風(fēng)險
? 特性
NDMA(分子式:C?H?N?O)是一種淡黃色、低揮發(fā)性、高水溶性的小分子化合物,這些特性使其難以通過空氣吹脫或常規(guī)吸附有效去除。
? 形成機(jī)理
機(jī)理為:水中存在二甲胺(DMA)、三甲胺(TMA)等叔胺類化合物,或含二甲胺基團(tuán)的藥物、農(nóng)藥等,在氯化作用下,氯胺與二甲胺反應(yīng)生成(UDMH),UDMH進(jìn)一步氧化,最終形成NDMA。
值得注意的是,高pH值、過量氯胺和較長反應(yīng)接觸時間都會顯著促進(jìn)NDMA的生成。因此,從源頭控制前體物、優(yōu)化消毒策略(如采用基于紫外線的多屏障消毒策略)是預(yù)防NDMA生成的第一道防線。
? 風(fēng)險
毒理學(xué)數(shù)據(jù)顯示,NDMA具有很強(qiáng)的致突變性和致癌性,對肝臟、腎臟等器官均有損傷。世界衛(wèi)生組織(WHO)及多國均為其制定了極為嚴(yán)格的飲用水標(biāo)準(zhǔn)(通常為納克/升級別)。NDMA的形成主要與氯消毒,特別是氯胺相關(guān)。
03
紫外線光解
解決NDMA問題的最直接方式
紫外線技術(shù)去除NDMA并非依賴單一機(jī)制,而是基于光化學(xué)原理的多路徑協(xié)同體系。其核心機(jī)制是直接光解,這是經(jīng)濟(jì)高效的方式。NDMA分子在紫外光譜區(qū),尤其是220-260 nm范圍內(nèi),具有強(qiáng)烈的吸收峰。當(dāng)UV光子被NDMA分子吸收后,其N-N鍵發(fā)生均裂,生成二甲胺自由基和·NO自由基,這些中間產(chǎn)物可進(jìn)一步氧化或發(fā)生其他反應(yīng),最終礦化為無害的硝酸鹽、甲胺和二氧化碳。
主要反應(yīng)
紫外線光解技術(shù)的優(yōu)勢在于高量子產(chǎn)率。NDMA的直接光解量子產(chǎn)率較高(在254 nm波長下約為0.3),每個被吸收的光子有較高概率引發(fā)降解反應(yīng),能量利用效率很高,且光解速率常數(shù)遠(yuǎn)高于許多其他有機(jī)微污染物。這意味著在較低的UV劑量下即可實現(xiàn)有效降解。
光源選擇方面,中壓紫外燈(MPUV)是優(yōu)選,因為其寬譜輸出(200-400nm)能覆蓋NDMA的最大吸收波段。相比主要輸出254 nm的低壓紫外燈(LPUV),在同等電功率輸入下,MPUV對NDMA的降解效率通常高出30%-50%。
核心反應(yīng)器
劑量設(shè)計方面,為實現(xiàn)1-2個數(shù)量級(90%-99%)的NDMA去除,通常需要施加數(shù)百至一千 mJ/cm²的UV劑量,這遠(yuǎn)高于常規(guī)消毒所需劑量(40 mJ/cm²)。因此,設(shè)備選型和能量配置需以此為基準(zhǔn)。需要注意的是,系統(tǒng)劑量與摩爾吸光系數(shù)高度相關(guān),通俗來說就是紫外線透過率(UVT),劑量設(shè)計首先要考慮UVT的波動。
04
紫外高級氧化工藝(UV-AOPs)
解決NDMA問題的有效方式
當(dāng)水體背景復(fù)雜,存在大量紫外吸光物質(zhì)(如天然有機(jī)物NOM)與NDMA競爭光子時,直接光解效率會因“內(nèi)濾效應(yīng)”大幅降低。此時需引入紫外高級氧化技術(shù)(UV-AOPs),如UV/H?O?工藝。
安力斯高級氧化系統(tǒng)
UV光解H?O?可產(chǎn)生強(qiáng)氧化性的·OH自由基。·OH無選擇性地攻擊NDMA分子,通過氫原子抽取等途徑使其降解。·OH的氧化性很強(qiáng),反應(yīng)速率常數(shù)很高,能有效克服背景有機(jī)物對光子的競爭,保證在復(fù)雜水質(zhì)下NDMA的穩(wěn)定去除。
安力斯紫外高級氧化設(shè)備
此外,紫外高級氧化體系中同時存在直接光解和·OH氧化兩條路徑,處理效果更有保障。該技術(shù)適用于UVT較低(如<90%)、NDMA前體物濃度高或需同時去除多種微量有機(jī)污染物的場景。